
WIERTŁO DO ZEWNĘTRZNEGO CHŁODZENIA, ŚR....
WIERTŁO DO ZEWNĘTRZNEGO CHŁODZENIA, ŚR. 3,80 MM

ANALOG IMPLANTÓW C1/V3 DO MODELI...
ANALOG IMPLANTÓW C1/V3 DO MODELI DRUKOWANYCH W TECHNOLOGII CAD/CAM, ŚR. 3,8 MM, L 10 MM, SP

ANALOG IMPLANTÓW SEVEN/M4 DO MODELI...
ANALOG IMPLANTÓW SEVEN/M4 DO MODELI DRUKOWANYCH W TECHNOLOGII CAD/CAM, ŚR. 3,8 MM, L 10 MM, SP

POLISHERS-CERAMICS
POLISHERS-CERAMICS
Elastyczne polerki MEISINGER gwarantują bezwonną i precyzyjną pracę wolną od wibracji za każdym razem od wymagającego, bardzo dokładnego szlifowania, po polerowanie na wysoki połysk. Ich zastosowanie gwarantuje optymalną jakość powierzchni na wszystkich polerowanych materiałach. Optymalne dopasowanie do różnych grup materiałów zapewnia najniższą emisję ciepła podczas pracy. Instrumenty składają się z wysokiej jakości drobnych materiałów ściernych osadzonych na sprężystej, elastycznej i bezlateksowej macierzy wykonanej z polisiloksanu i kauczuku syntetycznego na mandryli ze stali nierdzewnej.

IMPLANT M4, ROZMIAR 5 X 8 MM, WP
IMPLANT M4, ROZMIAR 5 X 8 MM, WP
Implanty M4 posiadają geometrię pół-stożkową z gwintem w kształcie litery V. Powierzchnia piaskowana i trawiona kwasem do poziomu platformy protetycznej. Podwójna nitka gwintu. Kształt implantu wraz z nowym rodzajem gwintu przeznaczony jest do łagodnej kompresji kości co zapewnia osiągnięcie maksymalnej stabilizacji pierwotnej i długoterminowej stabilności wtórnej. Płaski wierzchołek nowego implantu M4 pozwala na wprowadzenie korekty jego osi w trakcie procedury umieszczania go w kości.

IMPLANT SEVEN, ROZMIAR 5 X 8 MM, WP
IMPLANT SEVEN, ROZMIAR 5 X 8 MM, WP
Implanty z połączeniem sześciokąta wewnętrznego. Powierzchnia piaskowana i trawiona kwasem do poziomu platformy protetycznej. Podwójna nitka gwintu. Śruba kondensująca kość. Platforma protetyczna umieszczana na poziome kości. Do każdego implantu dołączone jednorazowe, sterylne kalibrowane wiertło końcowe. Kompatybilny protetycznie z implantem M4, zestaw instrumentarium do SEVEN będzie umożliwiał pracę implantami MIS M4.

IMPLANT SEVEN, ROZMIAR 5 X 16 MM, WP
IMPLANT SEVEN, ROZMIAR 5 X 16 MM, WP
Implanty z połączeniem sześciokąta wewnętrznego. Powierzchnia piaskowana i trawiona kwasem do poziomu platformy protetycznej. Podwójna nitka gwintu. Śruba kondensująca kość. Platforma protetyczna umieszczana na poziome kości. Do każdego implantu dołączone jednorazowe, sterylne kalibrowane wiertło końcowe. Kompatybilny protetycznie z implantem M4, zestaw instrumentarium do SEVEN będzie umożliwiał pracę implantami MIS M4.

IMPLANT V3B+, 5,0 X 10 MM - SP
IMPLANT V3B+, 5,0 X 10 MM - SP
Implanty V3 posiadają innowancyjny trójkątny kształt implantu w cześci koronowej - VConcept, posiadają połączenie stożkowe z anty-rotacją na indeksie stożka oraz płaski wieżchołek z agresywnym gwintem. Powierzchnia piaskowana i trawiona kwasem do poziomu platformy protetycznej.

IMPLANT V3B+, 5,0 X 8 MM - SP
IMPLANT V3B+, 5,0 X 8 MM - SP
Implanty V3 posiadają innowancyjny trójkątny kształt implantu w cześci koronowej - VConcept, posiadają połączenie stożkowe z anty-rotacją na indeksie stożka oraz płaski wieżchołek z agresywnym gwintem. Powierzchnia piaskowana i trawiona kwasem do poziomu platformy protetycznej.

IMPLANT V3B+, 5,0 X 11,5 MM - SP
IMPLANT V3B+, 5,0 X 11,5 MM - SP
Implanty V3 posiadają innowancyjny trójkątny kształt implantu w cześci koronowej - VConcept, posiadają połączenie stożkowe z anty-rotacją na indeksie stożka oraz płaski wieżchołek z agresywnym gwintem. Powierzchnia piaskowana i trawiona kwasem do poziomu platformy protetycznej.

IMPLANT C1B+, ROZMIAR 5,0 X 16 MM, WP
IMPLANT C1B+, ROZMIAR 5,0 X 16 MM, WP

IMPLANT SEVEN XD, ROZMIAR 5 X 10 MM, WP
IMPLANT SEVEN XD, ROZMIAR 5 X 10 MM, WP
Implanty z połączeniem sześciokąta wewnętrznego. Powierzchnia piaskowana i trawiona kwasem do poziomu platformy protetycznej. Podwójna nitka gwintu. Śruba kondensująca kość. Każdy implant SEVEN XD jest dostarczany ze sterylnymi wiertłami jednorazowego użytku, zaprojektowanymi z myślą o optymalnej kompatybilności implant-wiertło i wysokiej stabilności początkowej, przy jednoczesnym zapewnieniu bezpieczeństwa i uproszczenia procedur.